我国国产 DUV 光刻机迎来里程碑式进步，套刻≤8nm - 快讯

7 x 24跟踪全球科技动态

热门话题

白天

搜索

资讯

我国国产 DUV 光刻机迎来里程碑式进步，套刻≤8nm

2024-09-15

工业和信息化部发布《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》，列入国产氟化氪和氟化氩光刻机，分别适用于110nm和65nm制程芯片生产。这些设备代表了中国在光刻机领域的技术突破，对实现芯片制造自主可控具有重要意义。

上一篇：米哈游 AI 大模型“Glossa”完成备案

下一篇：中国国际公共关系协会人工智能工作委员会正式成立

返回列表

热文阅读

2 天前

AMD低调发布Raphael核心的Ryzen 5 7400F处理器

2 天前

超越 M4 Ultra：苹果最强芯片“Hidra”曝料，专为 Mac Pro 而生的性能王者

2 天前

英伟达遭遇美国史上最严AI芯片出口管控

2 天前

英伟达大砍台积电先进封装CoWos订单？究竟发生了什么？

2 天前

曝台积电拒绝代工三星Exynos处理器：理由是怕泄密

2 天前

英伟达这项技术，凭啥改变游戏行业？

2 天前

Jon Peddie Research：2024 年 GPU 出货量超 2.51 亿块，同比增长 6%

2 天前

昔日鞋王，难了

2 天前

国产 GPU 芯片独角兽公司“沐曦集成”启动 A 股 IPO 辅导

2 天前

英伟达更新路线图，台积电中枪？

上一篇：米哈游 AI 大模型“Glossa”完成备案

下一篇：中国国际公共关系协会人工智能工作委员会正式成立

C114通信网
通信人家园

7 X 24跟踪全球科技动态

发现

资讯话题

热门话题

7 x 24跟踪全球科技动态

快讯

资讯

视频

关于我们

C114通信网

通信人家园