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日本Rapidus接收首台EUV光刻机 计划2027年量产2nm芯片
3 天前 /
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来源：集微网
Rapidus成为首家引入EUV光刻设备的日本半导体公司，标志着日本重返先进芯片制造行列。计划2025年开发2nm芯片原型，2027年量产。
Rapidus已开始在其位于北海道北部城市千岁的在建芯片制造设施中安装极紫外（EUV）设备，这使其成为首家接收EUV光刻设备的日本半导体公司。
“我们将从北海道和日本向全世界提供尖端半导体，”Rapidus CEO小池淳义于新千岁机场举行的仪式上表示。
由荷兰供应商ASML制造的首批EUV光刻系统部件于上周六抵达机场，预计该系统在工厂的安装将在本月底完成。
由于系统体积巨大，安装将分四个阶段进行。一个完整的设备重达71吨，大约与鲸鱼相当，高度为3.4米。
EUV设备结合了特殊光源、镜头和其他技术，以形成超精细的电路图案。系统的庞大体积使其不易受到振动和其他干扰的影响。
ASML是全球唯一的EUV系统供应商。每个系统的成本约为1.8亿美元或更高。只有少数芯片制造商采用了它们，包括台积电、三星电子和英特尔。去年全球仅交付了42套系统。
Rapidus正与IBM合作，计划在2025年春季开发使用尖端2nm工艺的原型芯片，并计划在2027年大规模生产这些芯片。台积电计划在2025年大规模生产2nm芯片。
日本半导体产业在1980年代曾占据全球市场份额的50%以上。但到了2000年代，日本退出了生产越来越小的逻辑芯片的竞争。
目前没有日本芯片制造商能够生产比40纳米更先进的芯片。（校对/李梅）
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