【公布】华虹半导体“低压超结MOSFET的工艺方法”专利公布
2024-11-05 / 阅读约6分钟
来源:集微网

1.华虹半导体“低压超结MOSFET的工艺方法”专利公布

2.智芯微“对ADC转换结果进行校准的校准电路、方法及芯片”专利公布

3.一微半导体“片外存储器的读写控制时钟产生电路、片外存储器及系统”专利公布

4.飞骧科技“功率放大器和芯片”专利获授权

5.隆利科技一专利获认证,可使背光装置薄型化


1.华虹半导体“低压超结MOSFET的工艺方法”专利公布

天眼查显示,华虹半导体(无锡)有限公司“低压超结MOSFET的工艺方法”专利公布,申请公布日为2024年10月11日,申请公布号为CN118762996A。

本发明提供一种低压超结MOSFET的工艺方法,在第一导电类型的衬底上外延形成第一导电类型的外延层;利用离子注入的方法在外延层表面形成第二导电类型的体区,之后对体区进行热扩散推进;在体区上形成硬掩膜层和光刻胶层;光刻打开光刻胶层以定义出栅沟槽的形成位置,之后利用各向异性刻蚀的方法在硬掩膜层上形成开口至外延层上,以硬掩膜层为掩膜刻蚀开口底部的外延层以形成第一栅沟槽,第一栅沟槽从外延层的上表面向下延伸穿过体区;沿第一栅沟槽延伸方向的垂直方向回推刻蚀外延层形成第二栅沟槽,从而使得第二栅沟槽缩进硬掩膜层之内;在栅沟槽表面形成离子注入保护层。本发明可以避免在柱体区注入时体区和柱体区在沟道区连接在一起。

2.智芯微“对ADC转换结果进行校准的校准电路、方法及芯片”专利公布

天眼查显示,北京智芯微电子科技有限公司“对ADC转换结果进行校准的校准电路、方法及芯片”专利公布,申请公布日为2024年10月11日,申请公布号为CN118764026A。

本公开涉及模数转换器技术领域,具体涉及公开了一种对ADC转换结果进行校准的校准电路、方法及芯片,该校准电路包括:ADC,被配置为在接收到待转换的输入数据时,对所述输入数据进行模数转换,输出初始转换结果;数字校准单元,连接所述ADC的转换信号输出端口,被配置为对所述ADC输出的初始转换结果进行实时的校准运算,得到校准后的转换结果。该技术方案可以在保证ADC的转换精度的同时也提高了转换速率,主要用于对ADC的转换结果进行校准。

3.一微半导体“片外存储器的读写控制时钟产生电路、片外存储器及系统”专利公布

天眼查显示,珠海一微半导体股份有限公司“片外存储器的读写控制时钟产生电路、片外存储器及系统”专利公布,申请公布日为2024年10月11日,申请公布号为CN118760650A。

本申请公开片外存储器的读写控制时钟产生电路、片外存储器及系统,包括:读控制时钟产生模块,用于基于片选信号和地址信号生成读控制时钟脉冲信号并传输至读写控制时钟产生模块;写控制时钟产生模块,用于基于片选信号和写使能信号生成写控制时钟脉冲信号并传输至读写控制时钟产生模块;读写控制时钟产生模块,用于从读控制时钟脉冲信号和写控制时钟脉冲信号中选择其一作为片外存储器的读写控制时钟脉冲信号。本申请利用上位机对片外存储器的控制信号在片外存储器内部产生实现读写操作所需的时钟脉冲信号,基于读写控制时钟产生模块实现基于上位机读写需求灵活切换读时钟脉冲信号或写时钟脉冲信号,优化时钟脉冲信号的可靠性。

4.飞骧科技“功率放大器和芯片”专利获授权

天眼查显示,深圳飞骧科技股份有限公司近日取得一项名为“功率放大器和芯片”的专利,授权公告号为CN114978067B,授权公告日为2024年10月11日,申请日为2022年5月19日。

本发明提供了一种功率放大器,其包括第一驱动级偏置电路、第一驱动级晶体管单元、第一功率级偏置电路、第一功率级晶体管单元、输入匹配电路、第二驱动级晶体管单元、第二驱动级偏置电路、级间匹配电路、第二功率级晶体管单元、第二功率级偏置电路、输出匹配电路和CMOS控制器,CMOS控制器根据外部控制信号分别控制输入匹配电路、级间匹配电路、输出匹配电路、第一驱动级偏置电路、第一功率级偏置电路、第二驱动级偏置电路以及第二功率级偏置电路的工作状态。本发明还提供了一种应用所述功率放大器的芯片。采用本发明的技术方案可单独工作于4G工作频率或5G工作频率,且电路功耗低。

5.隆利科技一专利获认证,可使背光装置薄型化

11月4日,隆利科技发布公告称,公司近日收到由国家知识产权局颁发的一项发明专利证书,发明名称为“直下式背光装置及显示设备”,专利号ZL 2020 10016789.5。

发明专利《直下式背光装置及显示设备》提供一种改善面光源均匀出光的直下式背光装置,利用直下式背光的整体结构和反射杯上设置的透光结构,将从LED光源射出的光通过所述透光结构在所述反射杯之间传播,在不增加成本与出光均匀度的条件下,可有效地缩减LED光源与光学膜片之间的间距使得背光装置达到薄型化,克服亮暗不均(mura)的问题,实现均匀的面光源出光,并且提高了光的利用效率。

隆利科技表示,以上专利为公司自主研发,未来将陆续在公司相关业务中应用。上述专利的取得不会对公司生产经营造成重大影响,但有助于推动自主创新,发挥公司自主知识产权技术优势,完善知识产权保护体系,从而增强公司核心竞争力。