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华海清科“一种晶圆擦洗设备、晶圆擦洗系统和抛光设备”专利公布
18 小时前
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来源：集微网
天眼查显示，华海清科股份有限公司“一种晶圆擦洗设备、晶圆擦洗系统和抛光设备”专利公布，申请公布日为2025年2月28日，申请公布号为CN119542201A。
天眼查显示，华海清科股份有限公司“一种晶圆擦洗设备、晶圆擦洗系统和抛光设备”专利公布，申请公布日为2025年2月28日，申请公布号为CN119542201A。
本申请实施例提供了一种晶圆擦洗设备、晶圆擦洗系统和抛光设备，其中晶圆擦洗设备包括：擦洗刷和擦洗刷调控模块；所述擦洗刷调控模块设置在所述擦洗刷的背对晶圆的一侧，并且包括朝向所述擦洗刷依次设置的伸缩模块和磁吸模块；所述擦洗刷包括第一转轴和刷头，所述第一转轴包括朝向晶圆的第一端和背对晶圆的第二端，所述第一转轴的第一端与刷头连接、第二端与所述磁吸模块磁吸连接；所述擦洗刷调控模块配置成通过所述伸缩模块的轴向伸缩调控所述擦洗刷与晶圆之间的擦洗压力。本申请通过磁吸模块和伸缩模块的设置，实现了擦洗刷与擦洗刷调控模块之间的柔性磁吸连接，并能够在擦洗过程中保持刷头向晶圆表面施加的压力恒定。
